輝光放電分析（GDA）于1968年*出現(xiàn)，初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學(xué)分析。 這種分析方法不斷地發(fā)展，尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術(shù)相比，輝光放電技術(shù)的突出優(yōu)點(diǎn)是能夠表層分析樣品的表層。

主要特點(diǎn)

1.涂（鍍）層材料和均相材料化學(xué)成分的分析，痕量和微量合金元素的檢測和測量

2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價(jià)

3.測定被分析表面層內(nèi)部的相相比

4.軟件基于Windows 2000環(huán)境，日常分析功能采用易用的軟件界面，使用戶能很快地熟悉儀器的使用。

5. 分析軟件具有強(qiáng)大功能并且靈活易用，具有許多適于用戶的軟件功能選項(xiàng)，如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式。

6. 化學(xué)成分可以與其他特性，如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時(shí)測定

應(yīng)用領(lǐng)域

塊狀樣品分析

GDA750可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學(xué)成分），為復(fù)雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。

工藝過程佳化

通過比較涂（鍍）層工藝過程（CVD，PVD）前后的表面特性，確保生產(chǎn)工藝過程佳化和大程度地避免廢品浪費(fèi)。

非導(dǎo)體材料和涂層

采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉質(zhì)和油漆涂層。

GDA750可以配備60個(gè)以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂（鍍）層的深度可測量至200um，表面分析和獲得的分辨率達(dá)1個(gè)原子層。

適用于質(zhì)量控制和材料研究

在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段。表面處理工藝過程中，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。

采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。